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MODULARE PROZESSSYSTEME ADVANCED COATING EQUIPMENT MODULAR PROCESS SYSTEMS ADVANCED COATING EQUIPMENT

MODULAR PROCESS SYSTEMS MODULARE · PDF filemodulare prozesssysteme modular process systems advanced coating equipment advanced coating equipment

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MODULARE PROZESSSYSTEMEADVANCED COATING EQUIPMENTMO

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UNSERE STÄRKENVON ARDENNE ist Ihr Partner der Wahl, wenn Sie nach modularen Anlagen suchen, die einfach auf Ihre Anforderungen hinsichtlich Technologie und Produktivität angepasst werden können. Die MPS - Modulare Prozess Systeme - sind perfekt für den Einsatz in Forschung und Entwicklung als auch für die Serienfertigung geeignet. Auch wenn die Anwendungen von Kunde zu Kunde häufig variieren, hat sich VON ARDENNE bei individuellen Lösungen auch für anspruchsvollste Anforderungen bewährt.

Mit mehr als 40 Jahren Erfahrung in der Fertigung von Beschichtungs-technik sowohl für die industrielle Produktion als auch für Forschung und Entwicklung, ist VON ARDENNE einer der führenden Anbieter von Anlagen und Technologien in der PVD-Dünnschichttechnik und der Vakuumprozesstechnik. Dank dieser Expertise haben wir bereits mehr als 400 Vakuum-Beschichtungssysteme an Kunden in

ANWENDUNGEN

MEMS UND MOEMSMikroelektromechanische Systeme (MEMS) sind mikroskopische mechanische oder elektromechanische Strukturen und Bauelemente. Unseren Kunden, die in diesem Technologiebereich aktiv sind, bieten wir Anlagen zur Fertigung beispielsweise von Mikrospiegelarrays für industrielle Anwendungen. Darüber hinaus zur Herstellung mikrooptoelektromechanischer Systeme – MOEMS.

SENSORENFür die Sensorherstellung können leitende und aktive Schichten ebenso wie stark abschirmende Barriereschichten mit unseren Systemen abgeschieden werden. Durch die Verwendung von Masken im Abscheidungsschritt ist auch eine Strukturierung der Schicht möglich. Zu den Anwendungen zählen Sensorsonden für Position (GMR), Druck, Temperatur, Widerstand usw.

OLEDVON ARDENNE bietet verschiedene Systeme für die Klein- und Großserienfertigung mit Schwerpunkt auf der Abscheidung der aktiven Schicht mit eigenen organischen Verdampferquellen. Außerdem stellen wir Systeme für die Metallisierung in Kombination mit einem Maskenstrukturierungsverfahren sowie die Verkapselung bereit. Die wichtigsten Anwendungen für OLEDs sind kleine oder einfache Displays und Beleuchtung.

PHOTOVOLTAIK / ARCHITEKTURGLASFür die Photovoltaik- und Architekturglasindustrie bietet VON ARDENNE MPS-Ausrüstungen und Komponenten für die Forschung und Entwicklung sowie für die Optimierung bestehender Schichtstapel.

Der Einsatz unserer Modularen Prozess Systeme im F&E-Stadium erleichtert den Umstieg auf größere VON ARDENNE-Produktionsanlagen für die Großserienfertigung.

PRÄZISIONSOPTIKVON ARDENNE bietet Lösungen für die Abscheidung von Wechselschichtsystemen mit hoher Homogenität für wellenlängenabhängige Funktionen bei Filtern, Strahlteilen, Reflektoren und Funktionsschichten für Anti-Scratch-Anwendungen.

MEDIZINISCHE ANWENDUNGENWir bieten Systeme zur Metallisierungs- oder Barrierebeschichtung auch auf dreidimensionalen Objekten an. Diese Systeme verfügen über einen speziellen Substrathalter und eignen sich für medizinische Anwendungen wie elektrische Kontakte von Herzkathetern oder die Verkapselung von Implantaten.

ZUKUNFTSTECHNOLOGIENUnsere Modularen Prozess Systeme dienen der Entwicklung und Fertigung von Zukunftstechnologien wie Brennstoffzellen, Dünnschicht-Batterien und thermoelektrischen Generatoren. Sie können auch für Forschungsaufgaben und die Entwicklung wie aktuell die Low-E Windschutzscheiben oder Head-Up-Displays im Automotivebereich eingesetzt werden.

FORSCHUNG & ENTWICKLUNGBasierend auf unserer langjährigen Erfahrung als Zulieferer von Forschungseinrichtungen im In- und Ausland, bieten wir Systeme für alle Aufgaben der Grundlagenforschung, die anspruchsvolle Vakuum-beschichtungsanlagen erfordern.

HAUSEIGENES TECHNOLOGY & APPLICATION CENTER

— Musterbeschichtungen für Anwendungen unserer Kunden — Entwicklung kundenspezifischer Schichtstapel — Produkt- und Prozessüberprüfung sowie -optimierung — Tests von neuen Technologien und Komponenten

ENGE PARTNERSCHAFT

VON ARDENNE unterhält ein enges Netzwerk mit Partnern für eine noch tiefere F & E-Arbeit und die Identifikation von Zukunftstechnologien. Es umfasst:

— Fraunhofer Institute wie IPMS, FEP und ISE — Institute der Helmholtz-Gemeinschaft (Jülich, Berlin) — Universitäten (Kiel, Dresden, Sheffield) — Unternehmen wie die FAP GmbH, scia systems GmbH

PROFESSIONELLE UNTERSTÜTZUNG DURCH SIMULATIONWir bieten professionelle Simulationstechnologie, um beste Prozessqualität in Bezug auf Plasma, Heizung und Kühlung zu gewährleisten. Darüber hinaus helfen unsere Simulationswerkzeuge, Schichteigenschaften zu entwickeln, zu demonstrieren und zu verbessern sowie die Prozesse und die Leistungsfähigkeit unserer Systeme zu definieren oder zu optimieren.

WELTWEITE PROJEKTERFAHRUNGVON ARDENNE-Anlagen sind in über 50 Ländern im Einsatz. Wir haben eine installierte Basis von hunderten von Beschichtungssystemen, angefangen von kleinen Einkammersystemen bis hin zu Anlagen für großflächige Beschichtungs- aufgaben für unterschiedlichste Anwendungen und Märkte.

UMFANGREICHES SERVICEPORTFOLIO — VON ARDENNE-Servicezentren auf der ganzen Welt — Vor-Ort-Service (auf Anfrage) — Fernzugriff durch unsere Technologieabteilung (falls erforderlich) — Angebot regelmäßiger technischer und technologischer Schulungen — Ersatz- und Verschleißteillager in Kundennähe — Erhöhung der Langlebigkeit von Verschleißteilen

UPGRADES & RETROFITS Wenn Ihr Geschäft wächst, wächst Ihr VON ARDENNE-System dank seines modularen Aufbaus und der von uns angebotenen Upgrades mit. Wenn Sie sich entscheiden, Ihre Anwendungen zu ändern, unterstützen wir Sie mit den notwen-digen Technologie-Upgrades. Darüber hinaus rüsten wir Ihre Anlagen mit neuen Komponenten nach, unabhängig davon, ob sie aus dem Hause VON ARDENNE oder von Drittanbietern sind.

der ganzen Welt geliefert. Wir sind in der Lage, Ihre Anforderungen an Produkteigenschaften in effiziente und wettbewerbsfähige Beschichtungslösungen zu überführen. Sie basieren auf verschiedenen Konfigurationen unserer modularen Batch-, Load-Lock-, Cluster-, Inline- oder Drumcoater-Systemplattformen.

©Fraunhofer IPMS

Sputtern, planar 1

Sputtern, konfokal 2

Sputtern mit rotierendem Magnetfeld 3

Verdampung (thermisch, Elektronenstrahl) 4

Basierend auf der Erfahrung von mehr als 40 Jahren im Magnetron-Sputtern und über 50 Jahren in der Verdampfung Modularen Prozess Systeme über ein breites Leistungsspektrum. Alle wichtigen Vakuum-Dünnschichttechnologien können integriert werden. Darüber hinaus stehen verschiedene Methoden zur Vor- und Nachbehandlung zur Verfügung. Eine Besonderheit sind die zahlreichen Lösungen zur Überwachung, Handhabung und Steuerung der Systeme. Im Folgenden sehen Sie detailliert alle wesentlichen Merkmale unserer Systeme.

Der Erfolg unserer Modularen Prozess Systeme basiert auf einem hochflexiblen und breiten Konfigurationsumfang, unserem technologischen Fachwissen und unseren gesammelten Erfahrungen sowie selbst entwickelten und gefertigten Schlüsselkomponenten. Abhängig von der erforderlichen Anlagenkonfiguration kann ein VON ARDENNE-System eine oder mehrere der aufgeführten Komponenten enthalten. Die Systeme können nach ihrer Installation auch mit diesen Komponenten auf- und nachgerüstet werden.

HAUPTMERKMALE SCHLÜSSELKOMPONENTEN

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6 Atomlagenabscheidung (ALD)

7 Hot wire

8 Andere Prozesstechnologien auf Anfrage

Heizen / Tempern 1

Ausgasung 2

Ätzen (Elektronenstrahl, Glimmentladung) 3

Aligner 4

VOR-/NACH-BEHAND-

LUNG

1 Manuell, semi- oder vollautomatisch

2 SECS / GEM Schnittstelle

3 Data Logging

4 Benutzerverwaltung

STEUERUNG

BESCHICHTUNGSPROZESSE

HANDLING

1 Einzelsubstrat

2 Magazin

3 Substratwendestation

4 Carrier-Rückführsystem

5 Maskierung

6 Roboter Be- und Entladung

7 Reinraumtauglich

ÜBER- WACHUNG

VAprocos 2 1

Plasma Emissions Monitor (PEM) 2

Pyrometer 3

Messung der Abscheiderate 4

Temperaturaufzeichnung 5

In-situ-Messung, optische Schichteigenschaften 6

LION IonenquelleInverser Sputterätzer

Rohrmagnetron

VAprocos 2 Prozesssteuerungssystem

Rundmagnetron

Runde PECVD-Quelle

Glimmentladeeinheit

Rechteckiges Magnetron

Wicon Steuersoftware

Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD)

CS500 HIPIMS CLUSTER-SYSTEM Das Cluster-System nutzt eine der modernsten Beschichtungstechnologien, das

sogenannte Hochleistungs-Impuls-Magnetron-Sputtern (HIPIMS), das in der Lage ist, dünne Schichten mit einer extrem hohen Dichte abzuscheiden. Es eignet sich besonders für Anwendungen, die ein hohes Maß an Präzision erfordern, wie zum Beispiel Beschichtungen auf Glas, um Spiegelungen zu verhindern oder um reaktionsfähigere Smartphone-Bildschirme (z.B. Kratzschutz) herzustellen.

Ladekammer — Magazinschleuse für Carrier

6-fach Transferkammer — Vakuumroboter

Vorbehandlungskammer — Inverser Sputterätzer

2 Prozesskammern Hartstoffschichten und besonders dichte Schichten

— Jeweils bis zu 4 fokal angeordnete Magentrons — Unbalanciertes Hochleistungs-

Impulsmagnetronsputtern (HIPIMS) — Dreh- und höhenverstellbare Carrier-Plattform — Substratheizung (biz zu 900 °C) — Schnelles Gaseinlass- und -verteilsystem — Überwachungssysteme (z.B. Pyrometer)

CLUSTER-SYSTEME MODULAR, FLEXIBEL & KOSTENEFFIZIENT

REFERENZSYSTEMEUnsere Cluster-Systeme basieren auf einer Plattform mit vielen modularen Einheiten. Daher kann jede Anlage entsprechend den individuellen Anforderungen unserer Kunden konfiguriert werden. Darüber hinaus können spezielle Funktionalitäten integriert werden, um die technologischen Wünsche unserer Kunden zu erfüllen. Dank dieser Flexibilität helfen VON ARDENNE Cluster-Systeme unseren Kunden, ihre Betriebskosten zu senken.

LS500 DER KOMPAKTE ALLROUNDER Dieses sehr kompakte System kann für die Abscheidung von Schichtsystemen in Forschung

und Entwicklung sowie in der Kleinserienfertigung eingesetzt werden.

Bis zu vier Magnetrons ermöglichen einen hochflexiblen Betrieb zur Abscheidung unterschiedlicher Schichtsysteme. Zudem eignet sich die Anlage zum separaten oder Ko-Sputtern. Eine Kombination mit weiteren Optionen wie BIAS oder Überwachungssystemen ist möglich, so dass es sich um einen echten Alleskönner handelt.

Die Handhabung der Substrate erfolgt wafer- oder carrierbasiert.

Ladekammer — Einzelsubstrate oder Magazine

Prozesskammer Metalle, Dielektrika, Legierungen, Barriereschichten für medizintechnische Verkapselungen / Implantate

— Inverser Sputterätzer — 4 fokal angeordnete Magnetrons — DC, DC gepulst, RF-Prozesse — Höhenverstellbare und rotierende Substratplattform,

geeignet für RF BIAS — Integriertes Heiz- oder Kühlsystem — Plasma Emissions Monitor (PEM), Pyrometer

TRANSFERKAMMERN

LADEKAMMERN

NACHBEHANDLUNGS-KAMMERN

VORBEHANDLUNGS- KAMMERN

Einzelsubstratmodul

Magazinmodul

H2 Passivierungs- oder Blitzmodul

PECVD ICP Modul

PROZESS- KAMMERN

Elektronenstrahl-verdampfer

PECVD CCP Modul

Hot-wire-Modul

Verdampfungsmodul

Sputtermodul, 4-fach, konfokal

Sputtermodul, einfach, parallel

(R)IBE/S

Sputtermodul, 4-fach, parallel

6-fach

8-fach

4-fach

CS400 MEMS CLUSTER-SYSTEM Der CS400 eignet sich besonders für die Abscheidung hochreflektierender Schichtsysteme

für MEMS und MOEMS (mikro(opto)elektromechanische Systeme). Diese Schichtsysteme sind beispielsweise Mikrospiegelarrays, die für industrielle Anwendungen zugeschnitten sind. Dank eines Aufbaus als Cluster können mehrere aufeinanderfolgende Schichten in situ abgeschieden werden, ohne das Substrat aus dem Vakuum zu nehmen. Das System ermöglicht Beschichtungen mit außerordentlich hoher Präzision hinsichtlich der Schichtqualität. Es ermöglicht auch einen langzeitstabilen Prozess und eine schnelle Sputter-Druckregelung.

2 Ladekammern — Ladeschleuse für Wafer-Magazine

8-fach Transferkammer — Vakuumroboter, integrierte Ausrichtungs- und Kühleinheit

Vorreinigungskammer

5 Prozesskammern Metallisierung, hoch reflektierend, Antireflex (AR) und Deckschichten

— 300 mm Hochleistungsmagnetrons mit höchster Homogenität und Targetausnutzung

— DC, DC gepulst and RF-Prozesse — Gaseinlass- und -verteilsystem

Reinigungs- oder Ätzmodul

Die Systeme sind modular aufgebaut und bestehen aus eigenständigen Einheiten mit Prozesskomponenten, die auf Flanschen befestigt sind. Dies erlaubt eine Vielzahl kundenspezifischer Konfigurationsmöglich-keiten. Der Beschichtungsprozess kann mit unbewegten Substraten (z.B. PECVD- oder Verdampfung) oder oszillierenden Substraten mit kontinuierlich durchfahrenden Carriern erfolgen. Die Beschichtungszyklen können in Abhängigkeit des Prozesses und der gewählten Ausrüstung stark variieren. Alle Module sind für den 24/7-Betrieb geeignet. Um höchste Produktivität zu erreichen, bieten die Systeme eine automatische Be- und Entladung der Substrate, Carrier-Rückführsysteme sowie SECS / GEM Datenschnittstellen für die Automatisierung.

INLINE-SYSTEME HORIZONTAL ODER VERTIKAL

HOCHPRODUKTIVE ANLAGEN

REFERENZSYSTEMEFür die Verarbeitung größerer Substrate mit höherer Produktivität verfügt VON ARDENNE über mehrere Inline-Beschichtungsplattformen. Es sind Inline-Systeme sowohl in vertikaler als auch in horizontaler Ausführung geliefert und installiert worden. Sie werden von den Kunden sowohl für die Produktionsaufgaben als auch im Pilotmaßstab für die Schichtoptimierung eingesetzt, die VON ARDENNE-Großflächenbeschichtungsanlagen betreiben. Resultierende Prozessparameter können einfach übertragen werden.

VISS CONTINUOUS SPUTTER-SYSTEM Dieses System ist als Durchlaufanlage für die Schichtentwicklung unter produktions-

nahen Bedingungen konzipiert. Es kann aber auch als Produktions-anlage für kalte und warme reaktive und nicht-reaktive Abscheideprozesse eingesetzt werden.

2 Ladekammern — Für einen Carrier

2 Schleusenkammern — Integriertes Heizmodul

Vorbehandlungskammer — LION Ionenätzmodul — Elektronenstrahl-Hohlkathode — Heizmodul

Prozesskammer Al, CZT, MoOxNy, ZnTe - Halbleitermaterialien, Metalle - Kontaktmaterialien

— 8 Magnetrons, planar oder rotierend — DC, DC gepulst, RF-Prozesse — Heizmodule — Gaseinlass- und -verteilsystem — Hochpräzise Termperaturführung — PEM für reaktive Prozesse — Kühlfalle

VISS SINGLE-END SPUTTER-SYSTEM Dieses System eignet sich für die großflächige Abscheidung von optischen Einzel-,

Mehrfachmetall- oder Metalloxidschichten. Dank seines modularen Aufbaus kann es mit einer Vielzahl von Funktionen ausgestattet werden. Die Substrate werden durch ein System transportiert, das vertikal um -7º gekippt ist.

Diese Anordnung verringert die Verunreinigung mit Partikeln und ermöglicht, dass die Substrate ohne Berühren ihrer Vorderseite beladen werden können.

Be- und Entladestation — Roboterbeladung für einen Carrier

Ein-/Ausgabeschleusenkammer — Vakuumbypass für schnelle Evakuierung

Vorbehandlungskammer — Inverser Sputterätzer

Prozesskammer Metalle und Dielektrika für optische Anwendungen

— 4 planare Magnetrons — DC, RF Prozesse — Gaseinlasssystem

HISS HORIZONTALES OLED-SYSTEM Dieses System ist eine Produktionsanlage zur Herstellung von OLED-Displays

(organische Leuchtdioden). Ein hervorstechendes Merkmal dieses Systems ist die strukturierte Abscheidung durch Verwendung verschiedener Masken. Diese Masken werden im Vakuum ausgetauscht. Das System verwendet VON ARDENNEs organische Linear-Verdampfungsquellen mit inerter Materialbefüllung. Es wird vollautomatisch be- und entladen und verfügt über ein Carrier-Rückführsystem für sehr kurze Taktzeiten.

2 Be- und Entladestationen — Roboterbeladung — Positionierungssystem für die Masken

2 Ein- und Ausgabeschleusen-kammern

— Integrierte Ausrichtungs- und Kühleinheit

5 Pufferkammern — Garantieren höchste Produktiviutät

2 Prozesskammern OLED Materialien, Kontaktschichten

— Verdamperquellen für die Abscheidung organischer und metallischer Materialien

— Ko-Verdampfung — Carrier- und Substratzentrierung — Überwachung der Quartzrate,

Temperatur, Position

Carrier-Rückführsystem — In inerter Atmosphäre

Ladestation [unter Atmosphäre]

Beschichtungskammern

Ausgabeschleusenkammer

Eingabeschleusenkammer

Entladestation [unter Atmosphäre]

Vorbehandlungskammer

Die Ladestation dient der manuellen Beladung des Systems mit einem bereits bestücktem Carrier oder der Bestückung des Carriers. Dies kann entweder manuell oder mit Hilfe eines Roboters erfolgen. Alternativ kann eine Magazinladestation für mehrere Carrier verwendet werden.

Die Beschichtungskammern sind modular aufgebaut und bestehen je nachKundenwunsch aus einer variablen Anzahl verschiedener Prozessstationen. Daherkönnen die Module entsprechend in Reihe angeordnet werden. Die verfügbaren Beschichtungsverfahren sind Magnetron-Sputtern und PECVD. Darüber

Die Ausgabeschleusenkammer ermöglicht das Entladen des Carriers, ohne dieProzesskammern des Systems zu entlüften. Optional kann sie mit einem Kühlmodulausgerüstet werden.

Die Entladestation dient der manuellen oder mit einem Roboter automatisierten Entladung des Systems. Alternativ kann eine Magazinentladestation für mehrere Carrier verwendet werden, oder die Station kann mit einem Carrier-Rückführsystem kombiniert werden.

Die Eingabeschleusenkammer ermöglicht ein Überführen des Carriers in die Prozesskammer ohne diese zu entlüften. Optional kann sie mit einem Heizmodul und einer Vakuum-Umwegleitung (Bypass) ausgestattet werden, um die Pumpzeit zu reduzieren. Alternativ kann eine kombinierte Vor-/ Hochvakuum-Schleuse mit integrierter Vorbehandlung verwendet werden.

Die Vorbehandlungskammer kann mit einer Glimmentladevorrichtung, einem inversen Sputterätzer, einer LION-Ionenquelle oder einer Hohlkathode, sowie einer Heizung ausgestattet werden.

hinaus kann eine thermische und eine Elektronenstrahlverdampfung in unseren horizontal konfigurierten Systemen integriert werden. Die Prozesskammern können für reaktive, teilreaktive und nicht reaktive AC-, DC- oder DC gepulste Abscheideprozesse genutzt werden. Dafür kommen entweder VON ARDENNE-Planar-Einzelmagnetron-

Sputterquellen, Doppelanordnungen von planaren Magnetrons oder Rohr- Magnetron-Sputterquellen zum Einsatz. Zusätzlich können Heizer und Kühlfallen integriert werden und Überwachungs- und Steuerungssysteme zur Regelung des Prozesses oder des Verhaltens abgeschiedener Schichten.

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DRUM COATING SYSTEMEKOMPAKT, KOSTENGÜNSTIG & PRODUKTIV

REFERENZSYSTEMETrommelbeschichtungssysteme haben eine Reihe von Vorteilen: Sie bieten eine hohe Produktivität bei einem kompakten Aufbau und günstigen Investitionskosten. Diese leistungsfähigen Systeme sind speziell für die Abscheidung von Wechselschichtlagen geeignet. In Kombination mit Heiz- und Kühlfunktionen sowie einer Inline-Abscheideüberwachung können viele Anwendungsbereiche abgedeckt werden. Wir haben im Folgenden zwei installierte Versionen für Sie hervorgehoben.

UPGRADE FÜR HÖHERE PRODUKTIVITÄT MÖGLICH

— Automatische Be- und Entladung — Optische Überwachung und Steuerung — Plasma Emissions Monitor (PEM)

BS1200 SINGLE DRUM COATING SYSTEM Dieses System ist als Einkammersystem für die Verarbeitung von Substraten in den

Maßen 200 mm x 600 mm oder 8-Zoll mittels Magnetron-Sputtern in DC-Prozessen ausgelegt. Die Substrate sind in Carriern untergebracht. Die Carrier sind außerhalb eines zylindrischen Korbes angebracht. Der Korb dreht sich in der Vakuumkammer um eine vertikale Achse (Drehkorb). Eine große Tür dient dazu, den Carrierer innerhalb oder außerhalb der Prozesskammer zu be- oder entladen. Die Tür kann vom Reinraum aus geöffnet werden, während das System selbst in einem grauen Raum installiert ist. Optional kann eine Be- / Entladestation integriert werden.

Verschlusssysteme vor den Magnetrons ermöglichen ein Vorsputtern und die schnelle Abschaltung der Materialabscheidung auf die Substrate.

Be- und Entladestation — Große Tür zur Be- und Entladung — Drehbarer Korb

Vorbehandlungskammer — Inverser Sputterätzer

Prozesskammer Ultrakurzwellenspiegel

— 3 Planar- oder Rohrmagnetrons — DC, DC gepulst, RF-Prozesse — Gaseinlass- und -verteilsystem — BIAS

CS1200 MULTI-CHAMBER DRUM COATING SYSTEM Das CS1200 ist ein 4-Kammer-System und ermöglicht die Verarbeitung

kundenspezifischer Substrate mittels HF-Sputter-Ätzung, HF-Sputtern und unipolarer DC oder gepulster Beschichtung. Im Prozessbetrieb kann dies mit horizontal gerichtetem Partikelstrom und vertikal angeordneten Substraten erfolgen. Das System ermöglicht eine Heißabscheidung bei definierter und sehr gleichmäßiger Temperatur.

Das System wird durch eine Magazinschleusenkammer beladen. Ein Vakuumroboter transportiert den Carrier automatisch zwischen allen Vakuumkammern des Systems. Eine der Anwendungen für dieser Anlage ist die Herstellung von thermoelektrischen Generatoren.

Be- und Entladestation — Magazinschleusenkammer kombiniert mit Be-/Entladetür

Transferkammer

Pufferkammer — Zur vorübergehenden Lagerung im Vakuum

2 Prozesskammern Halbleiter und metallische Materialien, Verkapselungen für Sensoranwendungen

— Eine Kammer zur Metallisierung, eine für Halbleitermaterialien und Barriereschichten

— Simultane Verarbeitung in beiden Prozesskammern möglich

— Vorreinigung mit Ätzvorrichtung — Bis zu 9 Planarmagnetrons — DC, DC gepulst, RF-Prozesse — Heizsystem — Gaseinlass- und -verteilsystem — Plasma Emissions Monitor (PEM)

Hochvakuumpumpsystem

— Mit Turbopumpen

3

Prozesskammer - Edelstahlvakuumkammer mit 5 Prozess-Segmenten

— Bis zu 5 Planar- oder Rohrmagnetrons — Vorbehandlungsmodul

1 Große Tür zur Be- und Entladung

— Nutzerfreundliche Bedienung — Einfache Reinigung

4

Drehende Trommel mit mehreren Fächern für

Substrat-Carrier

— Carrier-Größe wird durch das Substrat vorgegeben — Frei wählbare Rotationsgeschwindigkeit — Korb kann entfernt werden

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VON ARDENNE develops and manufactures industrial equipment for vacuum coatings on materials such as glass, wafers, metal strip and polymer fi lms. These coatings give the surfaces new functional properties and can be between one nanometer and a few micrometers thin, depending on the application.

Our customers use these materials to make high-quality products such as architectural glass, absorbers and absorber tubes for solar-thermal power plants, refl ectors for lighting systems, displays for smartphones and touchscreens, solar modules and heat protection window fi lm for automotive glass.

We supply our customers with technologically sophisticated vacuum coating systems, extensive expertise and global service. The key components are developed and manufactured by VON ARDENNE itself.

Systems and components made by VON ARDENNE make a valuable contribution to protecting the environment. They are vital for manufacturing products which help to use less energy or to generate energy from renewable resources.

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REFERENCES