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Short Note s K5 1 phys. stat. sol. 5 K51 (3965) Physikalisch-Technisches Institut der Deutechen dkademie der Zur Textur von CdS-Aufdampf schichten G.O. matfLI;BR und H. PIIIBST Wissenschaften zu Berlin, Bereich Elektronische Halbleiter Von Durch die Arbeiten von H. BERGBR, B. GUTSCHB und W. IULEILE (1) ist bekannt, daf3 CdS-Aufdampfschichten auf Glas im allgemeinen eine stazk ausgepriigte Textur nach (001) besit- een - die Basisfltiohe des CdS liegt parallel zur Unterlage (weitere Literatureitate hierzu vgl. (1)). Diese Textur m d e auch bei Aufdampfschichten anderer Substanzen n i t hexagonaler bew. t r i g o n a l e r Struktur Mufig beobachtet (2). Es ist jedoch mtiglich, bei geeigneter Unterlage und geeigneten Aufdampfbe- dingungen andere Orientierungen zu erzwingen. einem Tantal-Blech bei 1800 OC flash-verdampft. Die Substrate - Glas, CaF2 poliert I.& CaF2-Spaltfl&he - befanden sich wtihrend der Verdampfung im Abstand von ca. 50 mm von der Verdampfer- quelle und waren unbeheiet. Die hinsichtlich ihrer Textur verglichenen Schichten auf den verschiedenen Substraten wurden gleicheeitig hergestellt . Die mittlere Aufwachsrate war bei allen Versuchen grtifler als 2 nm/s. Bemerkenswerte Unterschiede in der Schichtdicke in Abwgigkeit von der Unterlage wurden nicht beobachtet. Die Dicke wurde nur von den Verdampfungsdauer bestimmt. Die Schichten hafteten bei Dicken bis eu 1 pm sehr fest auf allen vemendeten Unterlagen. Die Textunuztersuchungen wurden n i t einem Runtgendiffrak- tions-ZWrohrgoniometer durohgeftthrt. Es ergab sich, daf3 dtin- ne Schichten auf Glas die gleiche Textur wie bei langsamer Be- dampfung - (001) parallel zur Unterlage - zeigten. Bei dickeren Schichten wurde auch ein zunehmender Anteil von Krlstalliten mit (110) parallel zur Unterlage gefunden. Im Gegensatz daeu eeigten dtinne Aufdampf schichten auf CaFg-Spaltf lgchen fast ausschliefllich Textur nach (1 01 ). Nach der Basis (001) orientierte lbistallite konnten liberhaupt nicht nachgewiesen werden, jedoch war noch ein geringer Anteil mit Klassiertes CdS-Pulver (4,l mm; +0,05 mm) wurde von

Zur Textur von CdS-Aufdampfschichten

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Short Note s K5 1

phys. stat. sol. 5 K51 ( 3 9 6 5 ) Physikalisch-Technisches I n s t i t u t der Deutechen dkademie der

Z u r Textur von CdS-Aufdampf schichten

G.O. matfLI;BR und H. PIIIBST

Wissenschaften zu Berlin, Bereich Elektronische Halblei ter

Von

Durch d i e Arbeiten von H. BERGBR, B. GUTSCHB und W. IULEILE (1) ist bekannt, daf3 CdS-Aufdampfschichten auf Glas i m allgemeinen eine s t a z k ausgepriigte Textur nach (001) besit- een - d i e Basisfltiohe des CdS l i e g t pa ra l l e l zur Unterlage (weitere Li te ra ture i ta te hierzu vgl. (1)). Diese Textur m d e auch bei Aufdampfschichten anderer Substanzen n i t hexagonaler bew. t r igonaler S t ruktur Mufig beobachtet (2). Es ist jedoch mtiglich, bei geeigneter Unterlage und geeigneten Aufdampfbe- dingungen andere Orientierungen zu erzwingen.

einem Tantal-Blech be i 1800 O C flash-verdampft. Die Substrate - Glas, C a F 2 po l i e r t I.& CaF2-Spaltfl&he - befanden s i ch wtihrend der Verdampfung im Abstand von ca. 50 mm von der Verdampfer- quelle und waren unbeheiet. Die h ins ich t l ich ih re r Textur verglichenen Schichten auf den verschiedenen Substraten wurden g le ichee i t ig herges te l l t . Die mi t t le re Aufwachsrate war bei a l l en Versuchen grtifler als 2 nm/s. Bemerkenswerte Unterschiede i n der Schichtdicke i n Abwgigkei t von d e r Unterlage wurden nicht beobachtet. Die Dicke wurde nur von den Verdampfungsdauer bestimmt. Die Schichten hafteten be i Dicken b i s eu 1 pm sehr f e s t auf a l l en vemendeten Unterlagen.

Die Textunuztersuchungen wurden n i t einem Runtgendiffrak- tions-ZWrohrgoniometer durohgeftthrt. Es ergab sich, daf3 dtin- ne Schichten auf Glas d i e gleiche Textur wie bei langsamer Be- dampfung - (001) para l le l zu r Unterlage - zeigten. Bei dickeren Schichten wurde auch e in zunehmender Anteil von Kr l s t a l l i t en m i t (110) pa ra l l e l zur Unterlage gefunden.

I m Gegensatz daeu eeigten dtinne Aufdampf schichten auf CaFg-Spaltf lgchen fast ausschliefllich Textur nach (1 01 ). Nach der Basis (001) o r i en t i e r t e l b i s t a l l i t e konnten liberhaupt nicht nachgewiesen werden, jedoch war noch e in geringer Anteil m i t

Klassier tes CdS-Pulver (4,l mm; +0,05 mm) wurde von

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Orientierung nach (100) vorhanden. Auch dickere Schickten wiesen die gleiche Textur auf. E r s t bei sehr diclcen Schichten wird wieder e in kleiner Anteil von nach (001) und (110) orien- t i e r t e n Kr i s t a l l i t en beobachtet . Die Textur nach (101 ) b le ib t jedooh ne i te rh in dominierend.

D s I j die angeftimte Textur i n e r s t e r Linie durch die Unterlage’) bedingt ist, eeigt s ich bei der Untersuchung der Schichten auf dem i n einer Ebene pa ra l l e l zur S p a l t f l b h e PO- l i e r t e n CaF2-Einkristall. Hier wird die gleiche Textur wie auf den SpaltstUcken gefunden, doch werden be re i t s bei mitt le- ren Schichtdicken Anteile von nach (001) und (110) or ien t ie r ten Kr i s t a l l i t en beobachtet . Durch den SchleifprozeR r i r d offenbar der orientierende EinfluR des Substrates gesttjrt.

(1) H. BERGER, E. GUTSCHE und W. KAHLE, phys. stat. s o l . 2. 7 679 (1964).

(2) H. PEIBST und G. W O N , Zur Textur von Se-Aufdampfschichten ( in Vorbereitung).

(3) E. SC-, private Mitteilung.

Li teratur

(Received December 9, 1964)

1 ) Versuche m i t Verdampfungsverfahren, W l i c h den i n (1) beschriebenen, zeigten, daI3 auch e i n gewisser Einf lul3 des Verfahrens vorhanden is t ( 3 ) .