Ultra-High Purity Gas Purifier for Point Use

ファインピュアラー

http: / /www.l iquidgas.co. jp/’11.09（T）

株式会社リキッドガス

Fine Purer型式

FPI-1③

FPO-M/FPO-1/FPO-2

FPO-M FPO-1 FPO-2

FPI-2 FPI-3

FPH-1③ FPH-2

④

④ FPH-3

⑤

⑤

寸法（mm)

a

b

470（612）

27.2φ 34φ 48.6φ

重さ（kg) 0.7（1.3） 1.0（1.6） 1.6.（2.2）

接続

型式

寸法（mm)

a

b

重さ（kg)

接続

1/４インチVCRタイプ オス（メス）

FPO-M① FPO-1② FPO-2②

250 480

590 1,055

（2.6） （25.6）

855

1,055

（35.6）

1/4インチVCRタイプ メス

Fine Purer寸法／重さ／接続

型式

寸法（mm)

a

b

重さ（kg)

接続

FPI-W-3

FPH-W-3

⑥

⑥

544

726

8.6

3/8インチVCRタイプ メス

FPI-W-3/FPH-W-3

4

※（　）内はバルブ付の場合です。

MFP-1/MFP-2型式

重さ（kg)

寸法（mm)

a

b

接続

MFP-1 MFP-2① ②

84.0（226.2）

34.0 42.7

0.2（0.8） 0.3（0.9）

84.0（226.2）

1/4インチVCRタイプ オス（メス）※（　）内はバルブ付の場合です。

FPI-1/FPH-1

FPI-2/FPH-2

FPI-3/FPH-3

ご注文・お問い合わせファインピュアラーのご注文・お問い合わせの際には下記仕様を連絡願います。

①ガス種　②ご使用流量　

③除去したい不純物成分　④入口側ガス純度

※仕様は予告なく変更することがありますので、　　あらかじめご了承ください。

営業技術部技術開発チーム〒554-0051　大阪市此花区酉島6丁目19番9号（大阪ガスエネルギー技術研究所内）TEL（06）6462-1713　FAX（06）6462-4812

産業ガス営業部〒541-0051　大阪市中央区備後町3丁目6番14号（アーバネックス備後町ビル4階）TEL（06）6267-5410　FAX（06）6267-5412

株式会社リキッドガス

インライン式 ガス精 製 機 器 ガス精 製 機 器超高純度

http: / /www.l iquidgas.co. jp/

バルブ付

FLOW b

a

バルブなし

b

a

b

FLOW

a

a

b

aa a

b bb

LIQUID GAS CO.,LTD.

ファインピュアラー製品ラインナップ

Fine Purer［ P

RO

DU

CT

LIN

E-

UP ］

イ ン ラ イ ン 式 超 高 純 度 ガ ス 精 製 機 器

～　３.０

～　5.0

～ 15.0

～ 30.0

～ 50.0

～100.0

①

②

③

④

⑤

⑥

MFP-1

MFP-2

FPI-1

FPI-2

FPI-3

FPI-W-3

N2

Ar

He

Ne

Xe

Kr

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有 / 無

有

有

有

ガス種 流量

（L/min）

（L/min）

（L/min）

型式 弁

不活性ガス用

～ ３.０

～ 5.0

～ 30.0

～ 60.0

～100.0

～200.0

①

②

③

④

⑤

⑥

MFP-1

MFP-2

FPH-1

FPH-2

FPH-3

FPH-W-3

H2水素用

～ 0.5

～ 20.0

①

②

FPO-M

FPO-1,2

O2酸素用

1.超高純度・長寿命・コンパクト新開発の化学吸着剤を採用し、従来のファインピュアラーに比べ長寿命化・コンパクト化が実現しました。また構造をシンプルにし、コンタミネーションの原因を更に取り除きました。

2.経済的構造をシンプルにし、かつ新化学吸着剤の採用により、より低価格を実現しました。ユーティリティは一切不要です。

概 要

入口ガス純度条件

本精製器は、化学・物理吸着剤を充塡した精製管、フィルター及び弁（弁なし仕様もございます）から構成され、不活性ガス（窒素・アルゴン・ヘリウム・ネオン・キセノン・クリプトン）中の不純物を、右記表の精製保証値まで除去する事ができます。一定ガス量を精製後、当社にて再生処理を行うことにより、繰り返しご使用が可能です。出荷時の封入ガスは、窒素・アルゴン・ヘリウムからお選びください。

高純度ガスをご使用ください。（ ＞99.999vol.% ）

高純度ガスをご使用ください。（ ＞99.999vol.% ）

N2ArHeNeXeKr

不活性ガス中の不純物を除去

不活性ガス用［FPI型］

H2

水素ガス中の不純物を除去

水素用［FPH型］

O2

酸素ガス中の不純物を除去

酸素用［FPO型］

概 要

入口ガス純度条件

高純度ガスをご使用ください。（ ＞99.999vol.% ）

入口ガス純度条件

本精製器は、化学・物理吸着剤を充塡した精製管、フィルター及び弁（弁なし仕様もございます）から構成され、水素ガス中の不純物を、右記表の精製保証値まで除去する事ができます。一定ガス量を精製後、当社にて再生処理を行うことにより、繰り返しご使用が可能です。出荷時の封入ガスはヘリウムです。

［特長］Function

［仕様］Specification

※W-3型はEPメタルダイヤフラム弁付のみ

使用圧力

弁

フィルター

精製管・配管

圧損

温度

0.0098 ～0.971MPa

弁なしまたはEPメタルダイヤフラム弁※0.003μm SUS316L

SUS316L EP

0.0098MPa 以下

常温

電源

温度（反応筒/吸着筒）

圧損

使用圧力

オプション

100V単相×3A

350℃ /常温

0.049MPa 以下

0.098～0.971MPa

弁

フィルター

精製管・配管

EPメタルダイヤフラム弁

0.003μm SUS316L

SUS316L EP

FPO-1、-2はヒーター断線警報、温度警報のドライ接点出力が可能

1 2 3

［仕様］Specification

1.超高純度高活性クリーン触媒により、不純物除去性能が飛躍的にアップしました。シンプルな構造なので、コンタミネーションを極力低減できました。反応管の断熱に真空断熱法を採用していますので、クリーンルーム内に設置してもダストの発生がほとんどありません。 （FPOー1,2型）

２.経済的従来型の精製装置に比べ、イニシャルコストは½～⅓と、低価格化を実現しました。

［特長］Function 概 要本精製器は、主としてユースポイント用超高純度仕様として開発したもので、燃焼触媒を充塡した反応管・物理吸着剤を充塡した吸着管、フィルター及びバルブからなり、酸素ガスの中の不純物を右記表のように極限まで除去することができます。一定量のガスを精製した後、当社にて再生処理をすることにより繰り返しご使用が可能です。

精 製 保 証 値（単位ppb）

不純物成分

精製ガス

分析計

O2 CO CO2 H2O

＜1 ＜1 ＜1 ＜1（DP-110℃）

API-MS API-MSGC API-MS or露点計

（単位ppb）

不純物成分

精製ガス

分析計

O2 CO CO2 H2O

＜1 ＜1 ＜1 ＜1（DP-110℃）

API-MS API-MSGC API-MS or露点計

寿 命 の 目 安

型式精製量（Nm3）

6N 5N

330

560

5,850

9,165

20,540

112,000

33

56

585

916

11,200

2,054

①　MFP-1

②　MFP-2

③　FPI-1

④　FPI-2

⑤　FPI-3

⑥　FPI-W-3

用 途■半導体向CVD装置・スパッタリング装置・酸化炉・エッチング装置・イオン注入装置パージ用・アニール炉・Si単結晶引上用

■化学向分析器のキャリアガス・ゼロガス用・高純度ガス充塡用

■その他グローブボックス用、各種雰囲気調整用

精 製 保 証 値

寿 命 の 目 安

型式精製量（Nm3）

6N 5N

330

560

5,310

8,330

18,670

102,000

33

56

531

833

10,200

1,867

①　MFP-1

②　MFP-2

③　FPH-1

④　FPH-2

⑤　FPH-3

⑥　FPH-W-3

用 途■半導体向CVD装置・酸化炉・エッチング装置

■化学向分析器のキャリアガス・ゼロガス用・高純度ガス充塡用

■その他各種雰囲気調整用

（単位ppb）

不純物成分

精製ガス

分析計

H2 COCH4 CO2 H2O

＜10 ＜10＜10 ＜10 ＜10（DP-100℃）

RGA GCGC GC 露点計

精 製 保 証 値

寿 命 の 目 安

型式精製量（Nm3）

5N

45

1,460

4,380

①　FPO-M

②　FPO-1

②　FPO-2

用 途■半導体向CVD装置・スパッタリング装置・酸化炉・エッチング装置洗浄用・アニール炉・イオン注入装置・アッシャー用オゾン発生用

■化学向分析器のキャリアガス・ゼロガス用・高純度ガス充塡用

■その他高温超電導材料焼成用

酸素用

不活性ガス用・水素用

FPI型FPH型

FPO型

11H84567_ ファインピュアラーパンフ裏