1196 Buchbesprechung Roam NEWMAN (editor) Buchbesprechung Fine Line Lithography Editor: F. F. Y. WANG) North-Holland Publishing Company, Amsterdam -New York -Oxford 1980 481 Seiten rnit 323 Abbildungen, 30 Tabellen und 537 Literaturzitaten. Preis US $ 92,75/Dfl. 190,OO. Der lithographische ProzeB stellt einen sehr wesentlichen Schritt in der Technologie mikro- elektronischer Schaltkreise dar. Aus okonomischen Griinden wird heute vorwiegend die optische Lithographie eingesetzt, aber es ist zu erwarten, daB mit zunehmender Inte- grationsdichte der Schaltkreise auch andere, leistungsfiihigere Verfahren wie die Elektro- nenstrahl- oder die Rontgenstrahllithographie praktische Bedeutung erlangen werden. Es ist deshalb sehr zu begriiBen, daB mit dem vorliegenden Buch erstmals uber den gegen- wartigen Stand auf dem Gebiet der Lithographie in zusammenfassender Form berichtet wird. In 5 Kapiteln, die jeweils von anerkannten Spezialisten auf diesem Gebiet verfaBt worden sind, wird uber die Grundlagen der Elektronenstrahl- und Rontgenstrahllitho- graphie bis hin zu moglichen praktischen Realisierungsvarianten (N. D. WITTELS), uber optische Methoden in der Lithographie (B. J. LIN), Elektronenstrahlprojektionstechniken (H. Koo~s), moderne Btzverfahren (R. L. MADDOX und M. R. SPLINTER) sowie uber den Einsatz der Elektroncnstrahltechnologie fur hochintegrierte Schaltkreise (E.V. WEBER) berichtet. Alle Beitriige zeichnen sich durch klare und iibersicht,liche Darstellungsweise und umfangreiches Bildmaterial aus. Die Vor- und Nachteile der einzelnen lithographischen Verfahren werden ebenso her- ausgearbeitet wie die Grenzen ihrer Einsatzmoglichkeiten. Die meist recht umfangreichen Literaturhinweise ermoglichen dem interessierten Leser auch sehr schnell ein tieferes Eindringen in das eine oder andere Spezialproblem. Alles in allem ein empfehlenswer- tes Buch fur Spezialisten wie auch fur jiingere Wissenschaftler, die sich mit der lithographischen Technik vertraut machen wollen. H. NEUMANN

Roger Newman (editor). Fine Line Lithography. Editor: F. F. Y. Wang. North-Holland Publishing Company, Amsterdam–New York–Oxford 1980 481 Seiten mit 323 Abbildungen, 30 Tabellen

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Page 1: Roger Newman (editor). Fine Line Lithography. Editor: F. F. Y. Wang. North-Holland Publishing Company, Amsterdam–New York–Oxford 1980 481 Seiten mit 323 Abbildungen, 30 Tabellen

1196

Buchbesprechung

Roam NEWMAN (editor)

Buchbesprechung

Fine Line Lithography

Editor: F. F. Y. WANG)

North-Holland Publishing Company, Amsterdam -New York -Oxford 1980 481 Seiten rnit 323 Abbildungen, 30 Tabellen und 537 Literaturzitaten. Preis US $ 92,75/Dfl. 190,OO.

Der lithographische ProzeB stellt einen sehr wesentlichen Schritt in der Technologie mikro- elektronischer Schaltkreise dar. Aus okonomischen Griinden wird heute vorwiegend die optische Lithographie eingesetzt, aber es ist zu erwarten, daB mit zunehmender Inte- grationsdichte der Schaltkreise auch andere, leistungsfiihigere Verfahren wie die Elektro- nenstrahl- oder die Rontgenstrahllithographie praktische Bedeutung erlangen werden. Es ist deshalb sehr zu begriiBen, daB mit dem vorliegenden Buch erstmals uber den gegen- wartigen Stand auf dem Gebiet der Lithographie in zusammenfassender Form berichtet wird. In 5 Kapiteln, die jeweils von anerkannten Spezialisten auf diesem Gebiet verfaBt worden sind, wird uber die Grundlagen der Elektronenstrahl- und Rontgenstrahllitho- graphie bis hin zu moglichen praktischen Realisierungsvarianten (N. D. WITTELS), uber optische Methoden in der Lithographie (B. J. LIN), Elektronenstrahlprojektionstechniken (H. K o o ~ s ) , moderne Btzverfahren (R. L. MADDOX und M. R. SPLINTER) sowie uber den Einsatz der Elektroncnstrahltechnologie fur hochintegrierte Schaltkreise (E.V. WEBER) berichtet. Alle Beitriige zeichnen sich durch klare und iibersicht,liche Darstellungsweise und umfangreiches Bildmaterial aus.

Die Vor- und Nachteile der einzelnen lithographischen Verfahren werden ebenso her- ausgearbeitet wie die Grenzen ihrer Einsatzmoglichkeiten. Die meist recht umfangreichen Literaturhinweise ermoglichen dem interessierten Leser auch sehr schnell ein tieferes Eindringen in das eine oder andere Spezialproblem. Alles in allem ein empfehlenswer- tes Buch fur Spezialisten wie auch fur jiingere Wissenschaftler, die sich mit der lithographischen Technik vertraut machen wollen.

H. NEUMANN